euv

Theo báo cáo của Bloomberg, các nhà phân tích của UBS dự đoán rằng trong vòng mười năm tới, khả năng sản xuất chất bán dẫn của Trung Quốc có thể khó đạt được tiến bộ đủ nhanh để phát triển các giải pháp thực sự thay thế công nghệ in khắc EUV tiên tiến của ASML. Các nhà phân tích của UBS đã viết trong báo cáo rằng, "giai đoạn hiện tại của họ dường như tương đương với ASML vào năm 2004", từ hoạt động nộp đơn xin cấp bằng sáng chế, đặc biệt là trong lĩnh vực nguồn sáng và hệ thống laser, mức độ trưởng thành công nghệ hiện tại của Trung Quốc tương đương với mức độ của ASML trước khi bắt đầu sản xuất hàng loạt thiết bị EUV 15 năm.UBS cũng dự đoán rằng Trung Quốc có khả năng đạt được khả năng sản xuất hàng loạt máy in khắc DUV ngâm trong vòng hai đến năm năm tới. Mặc dù DUV ngâm không tiên tiến bằng EUV, nhưng vẫn là thiết bị không thể thiếu trong sản xuất chip. Giá bán máy DUV ngâm của ASML gần 90 triệu USD, trong khi mỗi thiết bị EUV có giá trên 200 triệu USD. Trung Quốc là một trong những thị trường lớn nhất của ASML, nhưng do hạn chế xuất khẩu, ASML bị cấm bán thiết bị EUV cho Trung Quốc. UBS chỉ ra rằng, xét đến sự chênh lệch về tỷ lệ thành công và công suất cũng như các hạn chế quản lý, thiết bị in khắc của Trung Quốc khó có khả năng được áp dụng ở nước ngoài. Người phát ngôn của ASML không phản hồi yêu cầu bình luận. Báo cáo này dựa trên quan điểm dự đoán của các nhà phân tích UBS, tiến trình thực tế sẽ phụ thuộc vào động thái của ngành.

Tin tức từ ChainCatcher, đội ngũ phát triển quy trình Foundry của Viện Nghiên cứu Bán dẫn Samsung do Park Chang-min dẫn đầu đã cho biết tại "Hội nghị Khoa học Kỹ thuật Quang khắc và Hóa học Hình mẫu Thế hệ tiếp theo 2026", công ty dự định bắt đầu áp dụng công nghệ High-NA EUV từ quy trình 1 nanomet (A10), với mục tiêu đạt sản xuất hàng loạt vào khoảng năm 2030. Hiện tại, Samsung vẫn sử dụng giải pháp đa hình mẫu EUV 0.33 NA cho các quy trình 2 nanomet và nhỏ hơn, dự kiến sản xuất hàng loạt quy trình 1.4 nanomet vào năm 2029, sau đó sẽ tiến tới quy trình 1 nanomet.High-NA EUV sẽ nâng cao độ mở khẩu độ (NA) của ống kính từ 0.33 lên 0.55, mang lại độ phân giải cao hơn, có thể đơn giản hóa quy trình siêu vi mô cần đa hình mẫu trước đây thành một lần hình mẫu, giúp giảm chi phí sản xuất, nâng cao hiệu quả sản xuất và linh hoạt trong thiết kế. Tuy nhiên, công nghệ này có độ khó cao, thiết bị đắt tiền và cần nâng cấp đồng bộ công nghệ vật liệu đi kèm. Park Chang-min dự đoán rằng quy trình 1.4 nanomet và 1 nanomet vẫn sẽ chủ yếu sử dụng đa hình mẫu EUV 0.33 NA, sau đó High-NA sẽ trở thành công nghệ cốt lõi của thế hệ quy trình mới.

ChainCatcher news, according to Jinshi reports, the incoming ECB board member Kocher stated that regarding the September meeting, it is still necessary to maintain policy maneuvering space to respond to various possible situations unless the data clearly sends some strong signals.

ChainCatcher message, the MSCI Emerging Markets Currency Index reached a one-week high on Friday. Alex Wolf, Head of Asian Investment Strategy at JPMorgan Private Bank, stated: "Against the backdrop of slowing trade, the broad weakening of the dollar has made the monetary policy outlook for emerging market central banks clearer. As global investors are disappointed with the exceptionalism of the U.S., capital outflows have driven the dollar weaker, which has boosted emerging market currencies (with a few exceptions), providing more room for central banks to formulate policies."

ChainCatcher news, Trusta's Chief Technology Officer Simon posted on social media that the multiplier rule in the airdrop allocation design of ZKsync and LayerZero will exacerbate airdrop polarization and has potential actionable space.Simon stated that while he fully understands the project's emphasis on certain types of transactions, assets, and wallets, the use of multiplication or addition rules in airdrop design is still worth discussing.