黃仁勳稱中國 2030 年可搞定國產先進光刻

ChainCatcher 消息，黃仁勳在 All-In 峰會上判斷，中國到 2030 年就能做出自己的先進光刻系統。他還認為，一旦技術成熟，中國有很強的大規模生產能力，國產設備進入本土晶圓廠只是時間問題。

該判斷比蔡司更樂觀。蔡司半導體負責人 Frank Rohmund 最近稱，中國要做出國產 EUV 光刻機，可能還需要約 15 年。蔡司是 ASML EUV 光學系統的核心供應商。主持人問的是 advanced lithography systems，沒有具體限定為 EUV，黃仁勳在回答中也沒有進一步說是 EUV。