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first_img 삼성전자 고위 임원: 내년 HBM이 DRAM 웨이퍼 생산 능력의 거의 30%를 차지할 것으로 예상됨

재무연구소에 따르면, 현지 시간 9월 29일 보도에 따르면, 삼성전자 부사장 김태우는 내년 HBM이 DRAM 제조업체의 웨이퍼 총 생산능력의 거의 30%를 차지할 것으로 예상하며, 현재 이 비율은 약 20%라고 밝혔다. 그는 HBM과 전통적인 DRAM이 동일한 웨이퍼 생산능력을 두고 경쟁하고 있으며, HBM 생산 확대가 전통적인 DRAM 공급을 압박할 수 있다고 언급했다.트렌드포스는 이전에 2027년 말까지 세계 3대 HBM 공급업체의 HBM 웨이퍼 투입량이 DRAM 웨이퍼 총 투입량의 약 30%를 차지할 것으로 예상했지만, 저장 용량 기준으로는 약 13%의 DRAM 총 공급량에 기여할 수 있다고 밝혔다. 또 다른 보도에 따르면, 삼성은 올해 2월부터 HBM4의 양산 출하를 시작했으며, 5월에는 엔비디아를 포함한 고객에게 12층 HBM4E 샘플을 제공했다. 업계에서는 삼성 HBM의 월 평균 웨이퍼 투입량이 올해 약 18만 장에서 내년 약 25만 장으로 증가할 것으로 예상하고 있다.트렌드포스는 같은 날 AI 서버 수요가 지속되고 있으며, HBM과 범용 DRAM이 여전히 제한된 첨단 공정 생산능력을 공유할 것이라고 밝혔다. 2027년 저장 공급은 여전히 긴축 상태를 유지할 것이며, 2027년 HBM 가격 전망을 상향 조정하여 혼합 평균 판매가가 전년 대비 121% 상승할 것으로 예상하고 있다. 공급이 제한되고 시스템 비용 상승의 영향을 받아, 8층 HBM은 2027년 여러 제조업체가 우선 평가할 솔루션이 될 것으로 예상되며, 그 가격은 12층 제품보다 약 10%에서 20% 더 높을 것으로 보인다.

first_img 중앙일보: 장신 저장소 전 CEO가 삼성 공정에 압력을 가해 요구한 혐의

한국 《중앙일보》 보도에 따르면, 삼성전자 출신의 전 장신 저장(CXMT) 장비 투자 책임자 전 모의 진술서에 따르면, CXMT 전 CEO 왕닝국은 2016년 10월부터 12월까지 전 모와 한국 팀을 소집하여 삼성전자 공정 레시피 계획(PRP) 및 장비 정보를 가져오라고 요구했으며, 가져오지 않으면 한국 정부에 신고하겠다고 경고하고, 인맥을 확인하라고 말하며 거짓말을 하지 말라고 경고했다. 전 모는 당시 두려움을 느꼈다고 말했다. 보도에 따르면, CXMT 경영진은 당시 삼성전자의 코드명으로 "황산"을 사용했다.전 모는 삼성전자에서 28년 근무한 후 CXMT에 합류했으며, 삼성에서 16조 원을 투자하여 당시 세계 최초로 개발한 18나노 DRAM 공정을 무단으로 유출하고 사용한 혐의로 기소되었고, 올해 4월 1심에서 7년의 징역형을 선고받았으며 현재 2심 중이다. PRP는 DRAM 제조에 관한 약 600개의 단계의 순서, 장비, 조건 값 및 장비 회사와 모델을 포함한다. 삼성 공정 설계 엔지니어 출신인 박 모는 2016년 9월 관련 내용을 12페이지의 노트에 손으로 베껴서 가지고 나왔으며, 현재 국제형사경찰기구 적색 통보 상태에 있다.전 모는 재판에서 중국 측과의 소통 중 18나노를 만들 수 없으면 CXMT에 투자를 제공하지 않겠다는 발언이 있었다고 진술했으며, 이후 상대방이 처음부터 해당 기술을 원했다는 사실을 알게 되었고, CXMT는 처음에 자체 개발 계획이 없었다고 말했다. 위와 같은 압박은 투자 신청 준비 회의 이전에 발생했다. CXMT는 2016년 합비시 정부 산하 합비 산업 투자로 144억 위안을 투자하여 설립되었으며, 약 10년 동안 수익을 내지 못하다가 지난해 처음으로 연간 수익을 기록했으며, 순이익은 71억 위안이다.

first_img 삼성전자 평택 P5 첫 번째 양산 라인 건설을 가속화하며, 장비 도입 목표를 내년 2분기로 앞당겼습니다

ZDNet Korea의 9월 28일 보도에 따르면, 삼성전자는 평택 제5단지(P5) 첫 번째 양산 라인(Ph1) 건설을 가속화하고 있으며, 주요 장비 제조업체와 Ph1 장비 반입 목표를 원래 예정된 내년 3분기에서 내년 2분기로 앞당기는 논의를 하고 있다. P5는 2028년 투자를 목표로 하는 차세대 반도체 생산 기지로, 올해 3분기에는 Ph1 클린룸 건설이 시작되었다.삼성전자는 이전에 내년 초 완료될 예정이었던 P5 Ph1 클린룸 건설을 약 6개월 앞당겼으며, 장비 도입은 내년 3분기쯤으로 예상된다. 업계 관계자들은 장비 반입 시작 시간을 내년 7월에서 8월로 예정된 것을 내년 5월에서 6월로 앞당길 계획이라고 전했다; 또 다른 관계자는 삼성전자가 내년 1분기에 장비를 먼저 납품하고 다른 장소에 임시 보관하는 방안을 제안했다고 전하며, 이는 조기 투자 의지가 강하다는 것을 보여준다.P5 두 번째 단계(Ph2) 투자 논의도 진행 중이다. 현재 Ph1은 DRAM 및 HBM 생산 라인으로 건설될 가능성이 높고, Ph2는 10세대(V10)를 포함한 고급 NAND 생산 라인으로 건설될 가능성이 더 높다. 장비 업계 관계자는 공식 구매 주문이 아직 발주되지 않았지만, 삼성전자가 협력사와 함께 Ph2를 NAND 생산 라인으로 건설하는 논의를 했으며, 장비 납품 주기가 길기 때문에 관련 부품을 미리 준비해달라고 요청했다고 전했다. 보도에 따르면, 글로벌 대형 기술 기업들이 AI 인프라용 고성능 DRAM 및 NAND 주문을 늘리고 있지만, 삼성과 같은 메모리 기업의 생산 능력은 제한적이다. 삼성전자는 7월 2분기 실적 전화 회의에서 올해 충족하지 못한 수요가 내년으로 연기될 것이며, 내년 공급 부족이 올해보다 더 심각할 것이라고 언급하며, 부족 현상이 2028년까지 지속될 것으로 예상하고 있다.

first_img 삼성전자 다음 세대 DRAM 로드맵을 조정하여 B1b를 D0a로 명명하다

ZDNet Korea에 따르면, 삼성전자는 차세대 DRAM 전략을 조정하여 이전에 프로젝트 형태로 개발된 B1b를 공식 로드맵에 포함시키고, 이를 첫 번째 10nm 이하 DRAM D0a로 명명했습니다. 이전에 D0a는 수직 트랜지스터 DRAM을 지칭했으나, 현재 이 제품은 D0a-V로 별도로 분류됩니다. 이번 이름 변경은 범용 DRAM에서 고급 패키지를 도입하는 속도를 높이기 위한 것입니다.B1b는 저장 셀과 주변 구동 회로를 각각 다른 웨이퍼에서 제조한 후 결합하며, 웨이퍼 대 웨이퍼 혼합 결합을 사용하여 구리 상호 연결을 통해 직접 연결합니다. 현재 상용화된 DRAM은 1c로, 6세대 10nm급, 선폭 약 11~12nm입니다; 차세대 1d는 7세대 10nm급, 선폭 약 10~11nm로, 사실상 마지막 10nm급 제품으로 간주됩니다. 관련 선폭은 마케팅 용어일 뿐 실제 물리적 크기는 아닙니다. 수직 트랜지스터는 셀 내 트랜지스터를 수직으로 배치하여 셀 면적을 6F²에서 4F²로 줄일 수 있지만, 높은 깊이 폭 비율 에칭과 누설 전류에 대응해야 하므로 개발 난이도가 높습니다. 웨이퍼 대 웨이퍼 혼합 결합은 CMOS 이미지 센서와 고적층 NAND에서 양산 적용되고 있습니다.삼성전자는 B1b를 8세대 고대역폭 메모리 HBM5에 사용할 가능성을 평가하고 있습니다. HBM5는 약 2029년에 양산될 것으로 예상되며, HBM4E보다 50% 이상의 속도 향상을 목표로 하고 있습니다. 업계에서는 B1b 기반의 D0a DRAM이 가장 빠르면 약 2년 후 상용화될 것으로 추정하고 있으며, 구체적인 양산 투자 일정은 내년 중반에 확정될 예정입니다.

first_img 삼성전자, HBM4 수요에 대응하기 위해 4 나노 생산 확대 계획

머니 투데이에 따르면 9월 21일, 삼성전자는 HBM 시장 성장에 따라 웨이퍼 파운드리의 고급 공정 생산 능력 확장을 추진하고 있으며, HBM4 기판 칩 수요 증가에 대응하기 위해 4나노 공정 확대를 평가하고 있습니다. 삼성 HBM4는 10나노급 6세대(1c) DRAM 핵심 칩과 4나노 논리 기판 칩으로 구성되어 있으며, 기판 칩은 GPU와 같은 AI 가속기와 고속으로 데이터를 교환하는 역할을 합니다.SK 하이닉스가 TSMC의 12나노를 사용하는 것과 달리, 삼성은 HBM4 기판 칩에 자사의 4나노 공정을 사용하고 있습니다. 해당 생산 라인은 풀가동 중이며 엔비디아 Groq 3 LPU 등의 주문을 수주했습니다. 회사는 최근 4나노 신규 주문 및 HBM4 기판 칩 가격을 인상했습니다. 삼성은 3분기 HBM4 매출이 전분기 대비 3배 이상 증가할 것으로 예상하며, 하반기 HBM 매출 중 HBM4 비중이 60%를 훨씬 초과할 것이라고 밝혔습니다. 평택 P4 추가 확산의 대부분은 HBM용 1c DRAM에 사용될 것이며, 웨이퍼 파운드리 4나노 생산 능력의 절반 이상이 HBM4 기판 칩에 배정되었습니다.HBM4E 역시 4나노 기판 칩을 사용하며, 삼성은 5월 고객에게 샘플을 제공했습니다. 회사는 HBM5를 위한 2나노 신규 생산 라인 구축을 평가하고 있으며, 목표는 GAA 구조의 2나노 공정을 통해 TSV 밀도를 높여 HBM4E보다 50% 이상의 속도 향상을 이루는 것입니다. 삼성은 지난해 하반기에 2나노 1세대 양산을 시작했으며, 올해 하반기에 2세대 제품을 추진할 예정입니다. 씨티는 내년 전 세계 HBM 비트 수요가 752억 Gb에 이를 것으로 예상하며, 이는 전년 대비 62% 증가한 수치입니다. 공급은 약 594억 Gb로, 부족분은 약 21%에 이를 것으로 보입니다.

first_img 씨티은행: AI 지속 학습은 저장 공급 부족을 2031년까지 연장할 것입니다

모건 스탠리 분석가는 선도적인 저장 칩 제조업체들이 인공지능 발전에서의 구조적 변화로 혜택을 볼 것으로 예상하고 있습니다. 이 기관은 지속적인 학습이 저장 수요의 상당한 성장을 촉진할 것이며, 시장의 공급 부족이 2031년까지 지속될 것이라고 전망하고 있습니다. 지속적인 학습은 새로운 작업과 지식에 대한 훈련을 통해 모델을 강화하며, 이는 모델 업데이트 및 이전 데이터 접근에 대한 지속적인 수요를 가져오고 HBM, 서버 DDR5 및 eSSD와 같은 제품의 저장 용량을 증가시킬 것입니다.모건 스탠리는 HBM 비트 수요가 2027년에 전년 대비 62% 증가하여 752억 기가비트에 이를 것이며, 2028년에는 전년 대비 69% 증가하여 1270억 기가비트에 이를 것으로 예상하고 있습니다. 전 세계 DRAM 수요는 2027년과 2028년에 각각 전년 대비 30% 및 35% 증가할 것이며, 같은 기간 공급은 각각 19% 및 22% 증가할 것이라며, 공급과 수요 비율은 각각 -8.7% 및 -9.7%에 이를 것이라고 합니다. NAND 부문에서는 2027년과 2028년 수요가 각각 전년 대비 29% 및 33% 증가할 것이며, 공급 증가율은 21% 및 25%를 초과하여 공급과 수요 비율은 각각 -6.1% 및 -5.5%에 이를 것입니다.모건 스탠리가 선호하는 저장 관련 종목으로는 삼성전자, SK 하이닉스, 마이크론, 샌디스크 및 키옥시아가 있으며, 이는 각각 지속적인 학습으로 인한 저장 부족, HBM 및 서버 DDR5 수요, DRAM 공급 부족 및 고밀도 eSSD와 NAND 공급 긴축 등의 논리에 해당합니다.

first_img 삼성전자, SK 하이닉스 3분기 영업 이익 전망 상향 조정

한국일보 9월 15일 보도에 따르면, 삼성전자와 SK 하이닉스의 3분기 영업 이익 컨센서스가 3개월 만에 다시 상향 조정됐다. 주요 증권사와 해외 투자은행 보고서를 종합하면, 삼성전자의 3분기 영업 이익 예상은 약 114조 원으로, 3개월 전의 101.9052조 원에서 12.2836조 원(12%) 상향 조정되었고, 2분기 89.4조 원 대비 28% 증가했다. SK 하이닉스의 3분기 예상은 78.8035조 원으로, 3개월 전의 75.7249조 원에서 4% 상향 조정되었고, 2분기 60.5426조 원 대비 30% 증가했다.TrendForce는 3분기 일반 DRAM 고정 거래 가격이 전분기 대비 13%에서 18% 상승하고, NAND 플래시가 10%에서 15% 상승할 것으로 예상하고 있다. 증권업계는 삼성전자의 HBM4 매출 비중이 1분기 5%에서 2분기 약 35%로 확대되었고, 수율이 개선되고 있다는 점에 주목하고 있다. SK 하이닉스는 HBM 시장 점유율 1위를 유지하고 있지만, 삼성 HBM4 양산 개선이 공급 프리미엄을 희석할 수 있다. 씨티그룹 증권은 원화 강세로 인해 SK 하이닉스의 3분기 영업 이익 예상치를 76.7조 원에서 74조 원으로 하향 조정했다. 마이크론은 30일 2026 회계연도 4분기(6월~8월) 실적을 발표할 예정이며, 매출 가이드는 490억에서 510억 달러이다.
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