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first_img サムスン電子の幹部:来年、HBMがDRAMウェハー生産能力のほぼ三割を占めると予想しています

財聯社が報じたところによると、現地時間9月29日、三星電子の執行副社長Kim Taewooは、来年のHBMがDRAMメーカーのウェーハ総生産能力の約30%を占めると予想しており、現在その割合は約20%であると述べました。彼は、HBMと従来のDRAMが同じウェーハ生産能力を争っており、HBMの生産を拡大すると従来のDRAMの供給が圧迫される可能性があると述べました。TrendForceは以前、2027年末までに世界の三大HBM供給者のHBMウェーハ投入量がDRAMウェーハ総投入量の約30%を占めると予測していますが、ストレージ容量で計算すると、DRAM総供給量の約13%しか貢献できないとしています。また、9月20日の報道によると、三星は今年2月からHBM4の量産出荷を開始し、5月にはNVIDIAを含む顧客に12層HBM4Eサンプルを提供しました。業界では、三星のHBMの月平均ウェーハ投入量が今年の約18万枚から来年の約25万枚に増加すると予想されています。TrendForceは同日、AIサーバーの需要が続いており、HBMと汎用DRAMは依然として限られた先進プロセスの生産能力を共有すると述べ、2027年のストレージ供給は引き続き厳しい状況が続くとし、2027年のHBM価格予想を引き上げ、混合平均販売価格が前年比で121%上昇すると予測しています。供給が限られ、システムコストが上昇する影響を受けて、8層HBMは2027年に多くのメーカーが優先的に評価する方案となる見込みで、その価格は12層製品よりも約10%から20%高くなると予想されています。

first_img サムスン電子は平沢 P5 の最初の量産ラインの建設を加速し、設備導入の目標を来年の第2四半期に前倒ししました。

ZDNet Koreaの9月28日の報道によると、Samsung Electronicsは平沢第5工場(P5)の初の量産ライン(Ph1)の建設を加速しており、主要設備メーカーとPh1の設備搬入目標を当初の来年の第3四半期から来年の第2四半期に前倒しすることを協議しています。P5は2028年の稼働を目指す次世代半導体生産拠点であり、今年の第3四半期にはPh1のクリーンルームの建設が始まりました。Samsung Electronicsは、当初来年初めに完成予定だったP5 Ph1のクリーンルームの建設を約6ヶ月前倒しし、そのため設備導入は来年の第3四半期頃になると予想されています。業界関係者によれば、設備搬入の開始時期は来年の7月から8月を来年の5月から6月頃に前倒しすることが検討されており、別の関係者はSamsungが来年第1四半期に先に設備を納入し、他の場所に一時保管することを提案したとも述べており、早期投資の意欲が強いことを示しています。P5の第2段階(Ph2)への投資議論も進行中です。現在、Ph1はDRAMおよびHBM生産ラインとして建設される可能性が高く、Ph2は第10世代(V10)を含む先進的なNAND生産ラインとして建設される可能性が高いです。設備業界の関係者は、正式な調達注文はまだ出されていないが、SamsungはパートナーとPh2をNAND生産ラインとして建設することを議論しており、設備の納入サイクルが長いため、関連部品を前もって準備するよう要求していると述べています。報道によれば、世界の大手テクノロジー企業はAIインフラ用の高性能DRAMおよびNANDの注文を増加させており、Samsungなどのストレージ企業は生産能力が限られています。Samsungは7月の第2四半期の業績電話会議で、今年満たされなかった需要は来年に持ち越され、来年の供給不足は今年よりも深刻になると述べており、供給不足は2028年まで続くと予想しています。

first_img サムスン電子は次世代DRAMロードマップを調整し、B1bをD0aと命名しました。

ZDNet Korea の報道によると、サムスン電子は次世代 DRAM 戦略を調整し、以前プロジェクト形式で開発されていた B1b を正式なロードマップに組み込み、初の 10 ナノメートル未満 DRAM D0a と名付けました。以前の D0a は垂直トランジスタ DRAM を指していましたが、現在この製品は D0a-V として単独で分類されています。この名称変更は、汎用 DRAM における先進的なパッケージングの導入を加速するためです。B1b は、ストレージセルと周辺ドライバ回路を異なるウェハ上で製造した後に接合し、ウェハ対ウェハの混合接合を採用し、銅相互接続で直接接続します。現在商用化されている DRAM は 1c で、これは第 6 世代 10 ナノメートル級、ライン幅は約 11 から 12 ナノメートルです。次世代 1d は第 7 世代 10 ナノメートル級、ライン幅は約 10 から 11 ナノメートルで、事実上最後の 10 ナノメートル級製品と見なされています。関連するライン幅はマーケティング用語であり、実際の物理的サイズではありません。垂直トランジスタは、セル内のトランジスタを垂直に配置することで、セル面積を 6F² から 4F² に縮小できますが、高深幅比エッチングと漏れ電流に対処する必要があり、開発難易度は高いです。ウェハ対ウェハの混合接合は、CMOS イメージセンサーや高積層 NAND で量産応用されています。サムスン電子は B1b を第 8 世代高帯域幅メモリ HBM5 に使用することを評価しています。HBM5 は約 2029 年に量産される見込みで、HBM4E に比べて動作速度を 50% 以上向上させることを目指しています。業界では、B1b に基づく D0a DRAM は最速で約 2 年後に商用化されると見込まれており、具体的な量産投資スケジュールは来年の中頃に決定される可能性があります。

first_img サムスン電子は、HBM4の需要に対応するために4ナノメートルの生産を拡大する計画です。

Money Todayの9月21日の報道によると、サムスン電子はHBM市場の成長に伴い、ウェハー代工の先進プロセス能力の拡張を進めており、HBM4基座チップの需要増加に対応するために4nmプロセスの増産を検討しています。サムスンのHBM4は、10nm世代の6世代(1c)DRAMコアチップと4nmロジック基座チップで構成されており、基座チップはGPUなどのAIアクセラレーターとの高速データ交換を担当しています。SKハイニックスがTSMCの12nmを採用しているのとは異なり、サムスンはHBM4基座チップに自社の4nmプロセスを使用しています。この生産ラインはフル稼働しており、NVIDIAのGroq 3 LPUなどの注文を受けています。最近、会社は4nmの新しい注文とHBM4基座チップの価格を引き上げました。サムスンは第3四半期のHBM4の収益が前四半期比で3倍以上増加すると予想しており、下半期のHBM収益におけるHBM4の割合は60%以上になる見込みです。平沢P4の追加増産の大部分はHBM用の1c DRAMに使用され、ウェハー代工の4nm能力の半分以上がHBM4基座チップに割り当てられています。HBM4Eも同様に4nm基座チップを採用しており、サムスンは5月に顧客にサンプルを提供しました。会社はまた、HBM5のために2nmの新しい生産ラインを構築することを検討しており、GAA構造の2nmプロセスを目指し、TSV密度を向上させ、HBM4Eに比べて動作速度を50%以上向上させることを目指しています。サムスンは昨年の下半期に2nmの第一世代量産を開始し、今年の下半期には第二世代製品を推進します。シティは来年の世界のHBMビット需要が752億Gbに達し、前年比62%増加すると予測しており、供給は約594億Gb、ギャップは約21%になるとしています。

first_img シティ:AIの継続的な学習により、ストレージの供給不足が2031年まで延長される。

花旗のアナリストは、先進的なストレージチップメーカーが人工知能の発展における構造的変化から恩恵を受けると指摘しています。この機関は、継続的な学習がストレージ需要を大幅に増加させ、市場の供給不足が2031年まで続くと予測しています。継続的な学習は、新しいタスクと知識に基づいてモデルを強化し、モデルの更新や過去データへのアクセスに対する継続的な需要を生み出し、HBM、サーバーDDR5、eSSDなどの製品のストレージ使用量を引き上げます。花旗は、HBMビットの需要が2027年に前年同期比で62%増加し752億ギビット、2028年には前年同期比で69%増加し1270億ギビットに達すると予測しています。世界のDRAM需要は、2027年と2028年にそれぞれ前年同期比で30%と35%増加し、同時期の供給はそれぞれ19%と22%の増加にとどまり、供給と需要の比率はそれぞれ-8.7%と-9.7%になります。NANDについては、2027年と2028年の需要がそれぞれ前年同期比で29%と33%増加し、供給の増加21%と25%を上回り、供給と需要の比率はそれぞれ-6.1%と-5.5%になります。花旗が推奨するストレージ関連の銘柄には、三星電子、SKハイニックス、マイクロン、Sandisk、Kioxiaが含まれ、これらはそれぞれ継続的な学習によるストレージ不足、HBMとサーバーDDR5の需要、DRAMの供給不足、高密度eSSDとNANDの供給の引き締まりといった論理に対応しています。

first_img サムスン電子、SKハイニックスの第3四半期営業利益予想が上方修正されました

朝鮮日報の9月15日の報道によると、サムスン電子とSKハイニックスの第3四半期の営業利益のコンセンサスが3ヶ月以内に再度引き上げられました。主要な証券会社と海外投資銀行の報告を総合すると、サムスン電子の第3四半期の営業利益は約114兆ウォンと予測され、3ヶ月前の101.9052兆ウォンから12.2836兆ウォン(12%)引き上げられ、第二四半期の89.4兆ウォンからは28%の増加となります。SKハイニックスの第3四半期の予測は78.8035兆ウォンで、3ヶ月前の75.7249兆ウォンから4%引き上げられ、第二四半期の60.5426兆ウォンからは30%の増加です。TrendForceは第3四半期の一般的なDRAMの固定取引価格が前四半期比で13%から18%上昇し、NANDフラッシュが10%から15%上昇すると予測しています。証券界はサムスン電子のHBM4の収益占有率が第一四半期の5%から第二四半期の約35%に拡大し、良品率が改善していることに注目しています。SKハイニックスはHBM市場シェアの第一位を維持していますが、サムスンのHBM4の量産改善がその供給プレミアムを希薄化する可能性があります。シティグループ証券はウォン高の影響でSKハイニックスの第3四半期の営業利益予測を76.7兆ウォンから74兆ウォンに引き下げました。マイクロンは30日に2026会計年度第4四半期(6月から8月)の業績を発表し、収益のガイダンスは490億から510億ドルです。

first_img サムスン電機とクアルコムが共同で有機ブリッジ 2.1D パッケージ技術を開発

三星電機とクアルコムは、2.1Dパッケージ用の有機ブリッジ技術を共同開発しており、関連する開発と検証は1年以上行われています。有機ブリッジはインテルのEMIBで使用されるシリコンブリッジに似ていますが、有機材料を使用し、基板プロセスで製造され、同一パッケージ内の複数の半導体チップを接続するために使用されます。三星電機は、溝のあるFC-BGA基板に有機ブリッジを埋め込み、クアルコムチップを接続し、性能と信頼性を評価しています。クアルコムは、これをデータセンターの大規模な多チップ半導体に使用することを検討しており、2024年10月に関連特許を申請しました。三星電機は、他の多くの顧客とも並行してこの技術を開発しています。有機ブリッジの目標は、5層から7層の再配線層で、線幅と間隔は1.5から2ミクロン、ビアは4から5ミクロンで、チップ間のパターン密度は1ミリメートルあたり500から1000個に達します。三星電機は、自社で試作したサンプルを評価し、外部供給の評価も行い、三星電子のウェーハファウンドリと協力してパッケージ評価を行っています。

first_img 韓国メディア:中華人民共和国の半導体は政府、銀行、企業によってチーム体制で推進されている

韓国の《中央日報》によると、中国の半導体産業は中央政府、地方政府、国有金融機関、企業が分業協力し、資金調達、工場建設、インフラ整備の一体化した体制を形成しています。中国国家集成回路産業投資基金は第1期1387億元、第2期2040億元、第3期3440億元、合計6867億元を投資し、資金は中芯国際、華虹半導体、長江存儲などの企業に投入されています。長鑫存儲は設立から10年で世界のDRAM市場シェアを4位に引き上げ、ここ3年で211.3億元の純損失を計上し、同期間の研究開発と設備投資は1852億元に達しました。合肥市の国有資本は初期プロジェクトで約80%の資金を提供しました。韓国のサムスン電子とSKハイニックスは投資、雇用、技術開発、協力企業の支援などを担っています。韓国政府は2047年までに622兆ウォンの民間投資を誘導し、17兆ウォンの低利貸付と1.1兆ウォンの半導体エコシステム基金を提供する計画ですが、大部分は企業が負担します。韓国半導体産業協会の常務副会長パク・ゴンジュ:半導体は投資を停止すると次の上昇期に遅れを取る産業であり、不景気の時でも研究開発、設備投資、材料部品設備の注文を維持する必要があります。長期的な政策金融と税制の支援が必要です。中国は国家レベルで支援体制を整えて追いつこうとしており、韓国も政府、政界、金融機関、企業が共に行動する対応体系が必要です。
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